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半導體溫控系統主要由加熱循環系統、冷卻系統、控制系統、箱體等組成。加熱循環系統包括循環泵、電加熱器、膨脹容器、排氣閥、單向閥、熱電阻、循環管道等組成。冷卻系統包括油水換熱器、油油換熱器(部分設備)、冷卻水電磁閥、高溫電磁閥等組成。

PTHC反應釜溫度控制系統(反應釜溫控系統)采用磁耦合高溫循環泵，杜絕系統泄漏風險、密封好，流速大，確保設備能更快為外部系統換熱。配備人性化7英寸真彩LCD觸摸屏，良好的人機交互界面，直觀顯示本機參數及外部控溫參數。